金属靶材(包括钛靶,铬靶等)广泛应用于各种工业和科研领域。以下是这些金属靶材的一些主要应用:
1. 物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD):这些技术用于制造各种涂层和薄膜,广泛应用于制造半导体设备,光伏设备,硬盘,显示器,汽车零件,装饰物品,防腐蚀和抗磨损涂层等。
2. 磁控溅射:在磁控溅射中,金属靶材被用作溅射源,以在基材上沉积薄膜。这种技术被广泛应用于制造半导体,太阳能电池,光学镜片和其他电子和光电子设备。
3. 医疗设备:某些金属靶材(如钛靶)被用作X射线管的阴极,以产生X射线。此外,金属靶材也可以用于制造医疗设备的其他部件。
4. 光学镜片:例如,铬靶材经常用于制造光学镜片的涂层,这种涂层可以增强镜片的耐磨性和抗反射性能。
5. 研究用途:在科研中,金属靶材可以用于研究新的材料和制程
简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜...铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、铬、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。
主要应用在:
1、微电子领域
2、平面显示器用靶材
3、存储技术用靶材
用做功能薄膜:装饰、超硬、导电、保护、磁性、等